EMPro-PV是針對光伏太陽能電池高端研發和質量控制領域推出的型多入射角激光橢偏儀。

EMPro-PV用于測量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面減反膜鍍層的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可測量光滑平面材料上的單層或多層納米薄膜的膜層厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系數k。

EMPro-PV融合多項量拓科技技術，采用一體化樣品臺技術，兼容測量單晶和多晶太陽電池樣品，并實現二者的輕松轉換。一鍵式多線程操作軟件，使得儀器操作簡單安全。

特點：

粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測量

光能量增強技術、低噪聲的探測器件以及高信噪比的微弱信號處理方法，實現了對粗糙表面散射為主和反射率為特征的絨面太陽電池表面鍍層的高靈敏檢測。

原子層量的靈敏度和準確度

采樣方法、高穩定的核心器件、高質量的制造工藝實現并保證了的準確度和穩定性，測量絨面減反膜膜厚精度優于0.03nm，折射率精度優于0.0003。

百毫秒量的快速測量

水準的儀器設計，在保證精度和準確度的同時，可在幾百毫秒內快速完成一次測量，可滿足快速多點檢測和批量檢測需求。

簡單方便安全的儀器操作

一鍵式操作設計，用戶只需一個按鈕即可完成復雜的材料測量和分析過程，數據一鍵導出，豐富的模型庫和材料庫也同時方便了用戶的高操作需求。

應用：

EMPro-PV適合于光伏領域中高精度要求的工藝研發和現場的質量控制。可用于測量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面上單層減反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。典型納米膜層包括SiNx，ITO，TiO2，SiO2，A12O3，HfO2等。應用領域包括晶體硅太陽電池、薄膜太陽電池等。

EMPro-PV也可用于測量光滑平面基底上鍍的納米單層膜或雙層膜，包括膜層的厚度，以及在632.8nm下的折射率n和消光系數k。也可用于測量塊狀材料（包括，液體、金屬、半導體、介質等）在632.8nm下的折射率n和消光系數k。應用領域包括半導體、微電子、平板顯示等。

技術指標：

性能保證：

高穩定性的He-Ne激光光源采樣方法以及低噪聲探測技術，保證了高穩定性和高準確度

一體化樣品臺技術，兼容單晶和多晶硅太陽電池樣品,輕松變換可實現準確測量

高精度的光學自準直顯微和望遠系統，保證了快速、高精度的樣品方位對準

新型樣品調節技術，有效提高樣品定位精度，并節省操作時間

新型光電增強技術和噪聲處理方法，顯著降低現場噪聲的影響

一體化集成式儀器整體設計，保證了系統穩定性，并節省空間

分立式的多入射角選擇，可應用于復雜樣品的折射率和相對厚度的測量

一鍵式軟件設計以及豐富的物理模型庫和材料數據庫，方便用戶使用